第268章 西厂奠基(2/6)

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  不曾想,先前一系列操作,惊醒了顶头上司。

  而老学长们眼看办事能力极强,兜里又揣着无限科研经费的徐研究员,竟然对光刻机产生兴趣,当场来了七八位。

  于是,顶头上司旁听,九位老学长亲自教导,徐飞不得不端正态度,认真听讲。

  制造光刻机,是为了生产芯片。

  聊到芯片,要从计算机说起。

  当年人类造出第一台计算机,大约有三间房子大小。

  为了简化,陆续诞生了电子管计算机、晶体管计算机、中小规模集成电路计算机、大规模集成电路计算机。

  在这个发展过程中,计算机的体积不断缩小,能耗不断降低,运算速度不断加快,逐渐可以携带。

  所以,芯片的由来,是为了缩小电路,加快运算速度。

  而聊到电路,就要说一说模拟电路和数字电路,以及程序设计语言……

  徐飞睡醒一觉,发现老学长们,已经讲到光刻机。

  所谓的光刻机,跟福尔曼形容的差不多,就是一台“胶卷曝光机”。

  只是这台曝光机,十分先进,十分精密,从2寸底片,缩小到纳米级。

  因此,曝光用的“光源”,从灯泡缩小到激光,甚至射线、极紫外线。

  相应的,分辨率也从几百万,上升到几亿像素。

  胶卷的材质,扛不住这么集中的能量冲击,科学家便发明了“掩膜板”。

  然后用刻刀,把逻辑电路刻到“掩膜版”上,形成类似剪纸的“镂空”样式。

  犹如在a4纸上剪出一个“徐”字,贴在墙上,喷涂漆料,再揭走a4字,墙上便有了“徐”字。

  只是逻辑电路更复杂,就像在a4纸上写10万个“徐”,和写10亿个“徐”的难度,肯定不一样。

  不仅要缩小字体,还要缩小字与字之间的距离。

  这个距离,便是“制程”,目前最先进的为128纳米。

  刻画出“掩膜版”,等于纳鞋底有了鞋印子。

  接下来就是“曝光”。

  掩膜版上的线路,都是纳米级,若想让光线穿透的均匀,势必要用更细的“光”,才能穿过刻画出来的线路,以便再照片上形成图桉。

  因此,现在用的“光源”,叫极紫外线,也有的在用射线。

 

 

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