第268章 西厂奠基(3/6)

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  跟柯达研究反应堆一个道理。

  当极紫外线穿过掩膜版的缝隙,照射到下方的照片,也就是“晶圆”,晶圆表面的光刻胶,就会出现一个逻辑电路的影子。

  然后光刻胶凝固,晶圆的第二层“氧化层”,则会出现一个逻辑电路的轮廓。

  这个过程叫“显影”。

  有了轮廓,接下来就是“刻蚀”。

  犹如把刚刚喷吐在墙上的“徐”字,抠出来,在墙上留下一个“凹”下去的“徐”,方便“电子”在里面移动。

  徐飞听得津津有味,眼看老学长不再讲,好奇道:“没了?”

  “没了,就这简单。”

  “那咱为啥造不出来?”

  “你回忆一下这个过程,刻画掩膜版、制造射线级光源、精准到纳米级的曝光,还要确保掩膜版和晶圆上下对齐,避免错位的纳米级校对,以及在刻蚀过程中,包括曝光过程中,由于刻刀和镜头保持不动,机器操纵晶圆动来动去,一会加速,一会急停,一会旋转,对刻刀精度,对电机振动幅度,对后台控制系统稳定性的种种要求。”

  “确实挺难。”

  “是难吗?如果造和平武备的难度系数是1,造它的难度就是1万。”

  “那制造大型粒子对撞机的难度呢?”

  “100万。”

  “幸亏我没打算造那玩意。”

  “???”

  不止老学长们,就连昏昏欲睡的顶头上司,也打个激灵,坐直了腰板。

  徐飞眼看说漏嘴,若无其事的挽救道:“让徳国蔡司去造光刻机,咱搞代工。”

  “小徐啊,咱也要努力,随着科技发展,东西方早晚会碰撞的。”

  “明白。”

  小课堂结束后,科学院赠送给tep大学-西校区,一台300纳米制程,用于教学的光刻机。

  当天晚上运过来,早上就被电子实验室拆成了散件。

  里面包括静音级线性电机、射线发生器、光学镜片……

  配套工具包括光学掩膜版、六寸晶圆……

  晶圆则由光刻胶、氧化层、硅片构成。

  徐飞跟着科研人员忙活一天,数数录入的零部件,大约万个。

  其中,光学类,自家造不了,需要交给徳国蔡司。

  电路设计类,由社科院搞定。

  程序控制类,由电子实验室搞定。

 

 

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